台積電1舉動　專家拋警告！死敵恐重回「霸主地位」

科技中心／柯美儀報導　

▲台積電並未採用最新的高數值孔徑EUV曝光技術。（圖／資料照）

英特爾採用ASML高數值孔徑極紫外光EUV曝光機技術，而台積電卻不願立即採用，外媒認為，這將為英特爾重拾光環地位，打開另一個狹窄的窗口。

根據美國科技媒體wccftech報導，英特爾打算在即將推出的18A（1.8奈米）製程的製程中，試驗ASML的高數值孔徑極紫外光EUV技術，然後將其正式納入14A （1.4奈米）製造流程。

相較之下，台積電並未跟進，專家推測，ASML每台高數值孔徑EUV微影機的成本約為3.85億美元（約新台幣125.58億元），機器高昂的成本，可能是台積電不願全力投入這項技術的重要考量。

然而，專家示警，晚一點採用最新高數值孔徑EUV的作法，台積電可能會重蹈英特爾的覆轍，當時英特爾因為保留充裕的財務資源，不搶用新推出的EUV機台來最大化生產指標，而台積電大舉投資EUV技術，一下子就拉開技術差距，獲得回報。專家認為，此事將是英特爾重拾霸主地位的狹窄窗口。