台積電導入乾式光罩潔淨技術　創20億元效益

晶圓代工廠台積電導入乾式極紫外光（EUV）光罩潔淨技術，提升能源與資源使用效率，估計自民國107年試產迄今，累計創造新台幣20億元改善效益。

▲晶圓代工廠台積電（圖／資料照）

台積電表示，依製程需求，EUV微影製程光罩分為有保護膜及無保護膜兩種，公司選用無保護膜的EUV光罩，提高透光性，減少EUV微影製程曝光光能損耗。

為解決無保護膜EUV光罩的落塵問題，台積電品質暨可靠性組織攜手技術發展、營運組織，107年起共同開發落塵分析技術。

台積電創新研發乾式EUV光罩潔淨技術，透過乾式技術快速去除落塵，取代需要使用純水與化學品的濕式清潔手法；同時以次奈米級分析技術精準定位落塵來源，從根本排除汙染源，至109年成功使落塵削減率超過99%。

台積電107年導入試產迄今，除有效減省水、化學品等能資源使用量，依據生產週期控管系統顯示，乾式潔淨技術導入後大幅縮短光罩保修頻率與時間，使光罩使用率躍升超過80%，並延長先進製程EUV光罩壽命，累計創造的改善效益達20億元。